光刻图案化过程依赖于同时满足小特征尺寸分辨率、对EUV波长的高灵敏度以及可接受的线宽粗糙度的光刻胶。然而,从光掩模到晶圆图案化的最终步骤却是最不可预测且最难以理解的环节。
向上滑动阅览第178次北大赛瑟(CCISSR)双周讨论会责任险的不确定性:长尾风险与动态挑战主讲人:黄愔愔(慕尼黑再保险公司北京分公司原责任险核保负责人及创新保险产品开发主管)主持人:贾若(北京大学经济学院长聘副教授)时间:2025年3月24日(周一)10:00-11:30地点:北京大学经济学院302会议室主讲人简介:黄愔愔, ...
一些您可能无法访问的结果已被隐去。
显示无法访问的结果