2025年3月25日，中国科学院的实验室里传出一则震撼全球科技界的消息：全固态激光深紫外（DUV）光源系统研发成功。这项技术不仅攻克了光刻机核心光源的"卡脖子"难题，更以颠覆性创新改写了半导体制造的游戏规则。正如《自然》杂志评论："当西方还在加固技术 ...

近日，来自中国科学院空天信息创新研究院和中国科学院大学的研究人员打造出一种紧凑型固态纳秒脉冲激光系统，该系统能在 6 kHz 的重复频率下生成 193 nm 的相干光，未来有望用于芯片光刻领域。（来源：Advanced Photonics Nexus ...

2025年3月，中科院实验室里的一束紫色激光，击穿了西方构筑二十年的技术高墙。当国产全固态深紫外光源通过验收测试时，现场工程师相拥而泣——这束193纳米波长的光线，不仅意味着中国突破ASML专利封锁，更预示着全球半导体格局将迎来剧变。

中国科学院的研究人员开发的新型激光器采用晶体和光学技术，为基于气体的准分子激光器提供了一种替代方案。据报道，中国科学院（CAS）的科学家在固态深紫外（DUV）激光器方面取得了重大“突破”。国际光学与光子学学会（SPIE）在一份期刊上发表的一篇论文显示，来自中国的研究人员已经创造了一种用于半导体光刻的相干193nm ...

中科院的固态DUV雷射技术完全基于固态设计，由自制的Yb:YAG晶体放大器产生1030nm的雷射，在通过两条不同的光学路径进行波长转换。之后，转换后的两路雷射透过串级硼酸锂（LBO）晶体混合，产生193nm波长的雷射光束。

目前，全球主要的DUV光刻机制造商如ASML、Canon和Nikon，均采用氟化氩（ArF）准分子激光技术。这种技术通过氩（Ar）和氟（F）气体混合物在高压电场下生成不稳定分子，释放出193纳米波长的光子。这些光子以短脉冲、高能量形式发射，输出功率可 ...

中科院的固态DUV激光技术完全基于固态设计，由自制的Yb:YAG晶体放大器生成1030nm的激光，在通过两条不同的光学路径进行波长转换。 一路采用四次 ...

新型固态激光器可产生 193 纳米光，用于精密芯片制造，甚至产生具有轨道角动量的涡旋光束——这是首次可以改变量子技术和制造业的成果。深紫外 (DUV) 激光器发射波长极短的高能光，在半导体制造、高分辨率光谱、精密材料加工和量子技术等领域发挥着重要作用 ...