20世纪90年代初期，光刻对平坦度日益迫切的要求，催生了化学机械平坦化（CMP）工艺，它开始被用于后端（BEOL）金属连线层间介质的平整，当时还是一个不被看好的丑小鸭。然而随着时光的流逝，丑小鸭却越来越显现出她独特的魅力。 20世纪90年代中期 ...

浦项工科大学的一个研究小组开发出了一项突破性技术，利用微波克服了清洁制氢的关键难题。 在 Gunsu S. Yun 教授和 Hyungyu Jin 教授以及博士候选人 Jaemin Yoo 和 Dongkyu Lee ...

忘掉那些巨大的钢制反应罐吧。一些科学家正在探索一种通过地球深处岩石来“制造”化学品的新方法。 一项新研究发现，氨可以在地下常见的温度和压力条件下通过岩石生成，目前这项研究成果已经发表在 Joule上，而 MIT Technology Review ...

气凝胶被视为国家基础战略性前沿新材料，对降低碳排放、实现“双碳”目标具有重要战略意义。 36氪获悉，气凝胶材料制造厂商「宁波圣润新材料 ...

泛林干式光刻胶在后道工艺中的图案化能力目前已在 0.33 (Low) NA EUV 光刻机上得到了验证，未来还可扩展至逐步投入使用的 0.55 (High) NA EUV 光刻平台上。