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飞锃半导体的创新之路:新型MOSFET结构专利揭示集成度与可靠性双提升
近日,飞锃半导体(上海)有限公司向国家知识产权局申请了一项名为“一种半导体结构及其形成方法”的专利,旨在攻克当前MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)单元结构存在的可靠性不足及集成度低的问题。此举引发了业界的广泛关注,尤其是在半导体行业持续追求 ...
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扬杰电子斩获新专利,提升SiC MOSFET性能,再掀半导体热潮!
在新年的开端,扬州扬杰电子科技股份有限公司(以下简称“扬杰电子”)迎来了重磅消息:国家知识产权局正式授予其一项颇具前景的专利,名为“提高体二极管导通性能SiC MOSFET结构”,授权公告号为CN222322090U,申请日期回溯至2024年5月。
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在全球能源结构转型和可持续发展的大背景下,光伏产业作为可再生能源的主力军,正迎来前所未有的发展机遇··· ...
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